继7月顺利完成2米大口径干法刻蚀设备交付，今天再传喜讯！我司1.5米大口径干法刻蚀设备顺利发货交付。一直以来超迈人坚持脚踏实地，埋头苦干，精益求精，为客户增值的理念，不断开拓进取，以亮眼成绩为国产半导体设备的自主替代征程竖起新标杆！


 

       在芯片制造的精密“舞台”上，光刻、刻蚀和沉积被誉为三大黄金工序。它们彼此协作、环环相扣，如同配合默契的“铁三角”在生产流程中不断循环，共同雕琢出高品质芯片。其中，薄膜沉积设备在晶圆衬底表面生长所需薄膜，光刻机负责在薄膜上精准雕刻芯片图案，刻蚀设备将图形不需要的部分材料移除，而超迈公司矢志攻克芯片制造中的薄膜沉积与刻蚀设备技术难关，以先进技术赋予设备研制，成为客户的得力助手。

 

        此次大口径干法刻蚀设备的顺利交付，标志着公司在大尺寸刻蚀领域取得又一重大突破，掌握了技术，10多年来积累了丰富的经验，具有广泛的应用前景，对刻蚀行业发展具有重要意义。设备的交付不是终点，超迈将一如既往用心做好后续的售后服务。