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surpass大口径等离子刻蚀机，是超迈光电的明星产品，拥有自主产权。本设备主要用于半导体刻蚀，能够兼容离子束刻蚀和反应离子刻蚀功能，使用气态化学刻蚀剂与材料产生反应来进行刻蚀，并形成可从衬底上移除的挥发... ...
IBE350干法刻蚀设备，该刻蚀设备在半导体行业中占据着至关重要的地位，可以实现纳米级的精密刻蚀。对复杂微结构的器件加工，微电子器件的制造提供重要支持，在芯片领域发挥着关键作用。 ...
用于在玻璃基板上形成高精度光学多层膜的电子束蒸发镀膜机；通过组合满足客户需求的各种组分，可以形成质量更好的薄膜。底板伞骨采用旋转方式(公转)减少振动和颗粒，使底板稳定旋转。 ...